【公司研究】中微公司-推动ICP刻蚀销量增长组建EpiLPCVD开发团队-210526（33页）.pdf

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1、等离子体刻蚀设备为主要收入贡献来源。受益于近年半导体行业高景气度和公司产品竞争力的提升，随着公司的半导体设备产品线逐渐扩充并实现规模化销售，在 2020 年和 2021Q1 的设备收入结构中，刻蚀设备销售收入为 12.89/3.48 亿元，同比增长约 58.49%/63.75%，占专用设备收入的72.15%/72.35%;而 MOCVD 设备销售收入 4.96/1.33 亿元，同比变动约-34.47%/+76.85%，占专用设备收入的 27.85%/27.65%，其中，2020 年下滑为蓝光热退潮使得下游扩产速度放缓。收入结构中，刻蚀设备收入增长显著且为主要的业务来源。等离子体刻蚀技术国际领先

2、，MOCVD 设备市场有广阔的增长空间。中微公司在国产半导体设备中处于龙头地位，且一直是台积电刻蚀设备的供应商之一，是国产设备中少数拥有国际一线代工客户的企业。 在逻辑集成电路制造环节，公司开发的 12 英寸高端刻蚀设备已在国际一线客户从 65 纳米到 14纳米、7 纳米和 5 纳米的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用，3nm 刻蚀机 Alpha 原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估也已经完成，通过客户验证并投入量产线的可能性指日可待。 在存储芯片制造环节，公司的 CCP 刻蚀设备可应用于 64 层和 128 层的 3D NAND 闪存芯片量产，并能实现更高的深宽比。 目前 LE

3、D 制造设备领域内，蓝光 LED 外延片的 MOCVD 技术已达到成熟阶段，但 MOCVD 设备市场空间仍在增长，应用领域扩大范围可包括用于电力电子领域的功率器件;用于消毒和促进植物生长用的紫外光 LED;正推动显示技术革命和用于高端显示的 Mini LED、Micro LED 等。据 IHS Market 统计，2018 年中微的 MOCVD 设备占全球新增氮化镓基 LED MOCVD 市场份额高达 41%。且根据 Market.us 预测，到 2028 年 MOCVD 市场规模将翻一番，达到 16.38 亿美元，年均复合增长率约为 8.5%。光刻机、等离子体刻蚀设备、化学薄膜设备为制造集成电路、LED 芯片等微观器件的三个最关键设备，且逻辑器件的 14 纳米及以下器件工艺的完成需要结合化学薄膜设备和等离子体刻蚀设备一起合作形成多重模板工艺，随着对精细度的深入和对微观器件密度要求的提升，刻蚀设备和薄膜设备都会得到更多关注。