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1、上市公司 公司研究/公司深度 证券研究报告 电子 2023 年 06 月 20 日 中微公司(688012)半导体设备行业系列报告之五：国产刻蚀设备领军，先进工艺突破驱动持续成长报告原因：首次覆盖 买入（首次评级）投资要点：国内半导体刻蚀设备龙头，高研发投入持续加强壁垒。公司以 CCP 刻蚀设备起家，后逐步研发推出 MOCVD 设备、ICP 刻蚀设备等产品，当前刻蚀设备已实现 5nm 工艺节点量产。公司合同负债及存货规模近 2 年均大幅扩张，在手订单充足。2022 年公司合计研发投入营收占比 19.6%显著超越行业平均，研发人员占比超 4 成，近 4 年 3 轮全员股票激励计划保证团队稳定性与

2、积极性。刻蚀设备市场空间巨大，中微 ICP 设备快速放量进一步巩固龙头地位。2022 年全球半导体设备市场中刻蚀设备占比约为 22%，是占比最高的设备环节，其中 CCP 与 ICP 刻蚀设备市场规模相近；伴随先进制程采用多重曝光技术、存储器逐步转向 3D 结构，集成电路制造对刻蚀设备数量及性能需求大幅提升。中微公司 CCP 刻蚀设备在国内厂商中市占率大幅领先，ICP 刻蚀设备核心产品 2022 年出货量为 297 台，同比增长 77%，较 2020 年增长 461%，市占率有望追赶中微 CCP 设备。推进极高深宽比、大马士革刻蚀工艺研发，开拓薄膜沉积设备新领域。公司已完成 60:1深宽比刻蚀设

3、备研发，新机型已获得下游客户认可，预计将尽快投入量产，预将提升存储等国内下游客户订单份额；同时公司将推出一体化大马士革工艺刻蚀设备，是刻蚀设备领域技术壁垒最高、市场最大的领域之一，此前由日本厂商垄断；另一方面，公司 2Q23 发布 LPCVD 新产品，后续预将推出 EPI、ALD 设备，薄膜沉积设备有望形成新成长极。Mini LED、功率半导体驱动 MOCVD 设备再成长。公司在传统氮化镓基 LED MOCVD 设备领域保持全球市占率遥遥领先，2021 年研发量产 mini LED MOCVD 显著受益下游行业整体成长，2022 年研发硅基氮化镓功率器件 MOCVD 切入功率半导体市场。后续将

4、进一步推出 micro LED MOCVD、碳化硅外延相关设备，享受下游高端显示、功率器件领域高成长红利。投资分析意见：首次覆盖给予公司“买入”评级。预计公司 2023-2025 年营业收入分别为 63.2、82.4、103.5 亿元，同比增速分别为 33.3%、30.4%、25.6%，对应动态 PS 分别为 17、13、10 倍。采用动态 PS 相对估值法，给予公司 2023 年动态 PS 22 倍，较 2023年 6 月 19 日收盘价上涨空间 30.7%，首次覆盖给予“买入”评级。风险提示：晶圆厂扩产规模及节奏不及预期；公司技术突破进展不及预期；国际贸易摩擦升温。市场数据：2023 年

5、06 月 19 日 收盘价（元）168.8 一年内最高/最低（元）199.81/76.7 市净率 6.6 息率（分红/股价）-流通 A 股市值（百万元）104352 上证指数/深证成指 3255.81/11274.05 注：“息率”以最近一年已公布分红计算 基础数据:2023 年 03 月 31 日 每股净资产（元）25.66 资产负债率%21.98 总股本/流通 A 股（百万）618/618 流通 B 股/H 股（百万）-/-一年内股价与大盘对比走势：相关研究 证券分析师 杨海晏 A0230518070003 王珂 A0230521120002 李天奇 A0230522080001 刘建伟（

6、男）A0230521100003 联系人 李天奇(8621)23297818 财务数据及盈利预测 2022 2023Q1 2023E 2024E 2025E 营业总收入（百万元）4,740 1,223 6,318 8,238 10,350 同比增长率（%）52.5 28.9 33.3 30.4 25.6 归母净利润（百万元）1,170 275 1,411 1,811 2,178 同比增长率（%）15.7 135.0 20.6 28.4 20.3 每股收益（元/股）1.90 0.45 2.28 2.93 3.52 毛利率（%）45.7 45.9 46.1 45.1 44.1 ROE（%）7.6