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电子行业光刻机深度:筚路蓝缕寻光刻星火-230908(61页).pdf

上传人: a****e 编号:140124 2023-09-12 61页 3.58MB

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本文主要介绍了光刻机行业的发展历程、技术演进、市场空间、竞争格局以及国内发展现状。光刻机是芯片制造的核心设备,随着技术进步,光刻机从接触式发展到投影式,光源从可见光到紫外光再到极紫外光,数值孔径从0.5NA提升至1.35NA,分辨率从微米级提升至亚纳米级。2022年全球光刻机市场规模约230亿美元,ASML占据全球80%以上份额。我国光刻机市场依赖进口,2022年进口额约40亿美元,高端EUV光刻机面临断供风险。国家正集中力量突破光刻机核心技术,上海微电子、中科院微电子所等机构正加快研发进程,有望实现0到1的突破。
光刻机技术演进如何成就摩尔定律? 光刻机三大核心系统是什么? 国产光刻机发展现状及未来展望如何?
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