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电子行业半导体材料系列:光刻胶光刻环节核心厚积薄发国产替代-210731(20页).pdf

上传人: 栗****苦 编号:47821 2021-08-02 20页 1,000.54KB

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本文主要分析了光刻胶在半导体制造中的重要性、市场规模、国产替代机遇以及风险提示。 1. 光刻胶是半导体制造中的核心材料,其性能直接影响芯片的运行速度和功耗等关键参数。 2. 2015年全球光刻胶市场规模约为13亿美元,至2020年已达到21亿美元,中国光刻胶市场从2015年的1.3亿美元增长至2020年的3.5亿美元。 3. 中国晶圆代工厂的扩产直接推动了光刻胶市场的高速发展,预计未来中国光刻胶市场规模将向100亿人民币发展,全球市场规模将超过50亿美元。 4. 随着晶圆产能的扩张和制程的升级,光刻胶的价值量将提升,国产替代迎来黄金机遇期。 5. 风险提示包括国产替代进展不及预期、全球贸易纷争影响和下游需求不确定性。
光刻胶在半导体制造中起什么作用? 中国半导体光刻胶市场发展现状如何? 国产光刻胶替代进口产品的机遇在哪里?
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