西南证券最新深度报告指出，上海新阳正复刻东京应化的成长路径——通过"光刻胶+功能湿电子化学品+设备"的协同产品模式，建立起完善的产品协同开发体系。2025年公司半导体业务营收达15.17亿元，同比增长46.50%；2026年一季度营收同比增长33.05%，归母净利润同比增长102.59%。本报告基于西南证券研究所数据，深入分析上海新阳的成长路径与长期发展空间。

东京应化是全球光刻胶龙头企业，1940年以化工纯化技术起家，1968年开发出光刻胶产品，并配合化工纯化技术推出显影液、蚀刻液等光刻配套功能湿电子化学品。目前东京应化已形成电子材料（光刻胶、感光膜等）和高纯湿电子化学品两条腿齐头并进的格局，2025年两者营收占比分别为52.6%和46.2%。

上海新阳的发展路径与东京应化高度相似。公司成立于1999年，主要产品为半导体封装用电子清洗和电子电镀化学品。目前正积极推进集成电路制造用光刻胶、先进制程湿法蚀刻液、清洗液等产品的研发和产业化。公司"光刻胶+功能湿电子化学品+设备"的业务模式与东京应化如出一辙。

三种主要产品共同研发的模式可大幅提高研发效率和产品迭代速度。光刻胶需要配套的显影液、剥离液等功能湿电子化学品协同使用，设备则需要与化学品配方适配。这种协同开发体系形成了较高的综合壁垒，有望在国内复刻东京应化的成长之路。

上海新阳的半导体业务正处于高速增长期。2025年公司半导体业务营收达15.17亿元，同比增长46.50%，其中集成电路材料14.79亿元，同比增长48.15%。2026年一季度，公司营收同比增长33.05%，归母净利润同比增长102.59%。半导体行业收入占比从2020年的47%快速提高至2025年的78%，带动公司整体盈利能力显著提升。

产能建设方面，公司通过调整合肥新阳产线布局，产能扩充至4.35万吨，并追加投资至10.49亿元。同时稳步推进上海化学工业区项目建设，投资建设年产50000吨集成电路关键工艺材料及总部、研发中心项目，预计投资总额18.5亿元。三大基地共振有望开启公司新成长周期。

研发投入方面，公司2025年前三季度研发费用同比增加23.23%，占营业收入13.70%。持续高强度的研发投入为公司在光刻胶、先进制程湿法蚀刻液、清洗液等高端产品领域的突破提供了有力保障。

功能湿电子化学品单品市场规模有限，但向光刻胶等相邻赛道延伸可打开数倍的市场空间。东京应化正是通过从高纯化工品向光刻胶延伸，实现了从数十亿日元到数千亿日元市值的跨越。光刻胶市场规模远大于配套湿电子化学品，且技术壁垒更高、客户粘性更强。

上海新阳在光刻胶领域的布局已取得实质性进展。公司承接了集成电路制造用光刻胶的研发和产业化项目，部分产品已进入客户验证阶段。光刻胶与功能湿电子化学品的协同开发体系有望帮助公司在光刻胶领域实现快速突破。

从长期来看，上海新阳有望复制东京应化的多成长曲线发展模式——依托微加工技术和高纯化工品技术，从功能湿电子化学品向光刻胶、感光膜、先进封装材料等方向持续延伸。随着三大基地产能的陆续建成投产，公司将迎来高速增长期。

表5：上海新阳半导体业务增长趋势

年份	半导体业务营收（亿元）	同比增长	营收占比
2020年	3.27	—	47%
2025年	15.17	+46.5%	78%
2026Q1	—	+33.1%	—