1、INDUSTRY REPORT 行业研究市场分析全景洞察2025深度行业分析报告2 0 2 5 硅光技术发展现状、原理拆解及产业链上中下游分析报告ZXOWnRzRxOrRtNnOpMmQtP9PdNaQoMnNnPrMjMqRoMeRpPqMaQrRuNMYtRqMvPsPwPCONTENTS目目 录录CONTENTS目目 录录硅光原理及结构拆解(物理结构视角)硅光光模块产业链分环节分析(产业链分工视角)010203硅光技术概况、产业节奏及发展趋势硅光技术概况、产业节奏及发展趋势CMOS工艺:工艺:CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor,互补金
2、属氧化物半导体)工艺的本质是n沟道MOS管和p沟道MOS管组合一起使用,并且彼此称为对方的负载电阻,从而在工作时实现省电的目的。它是当今集成电路制造的主流技术,大部分IC芯片,包括大多数数字、模拟和混合信号IC,都是使用 CMOS技术制造的。CMOS工艺技术自1963年由Wanlass和Sah提出以来,已发展成为半导体制造的主流工艺技术。随着硅的局部氧化工艺、离子注入技术、光刻技术等关键技术的不断发展和改进,CMOS工艺得以广泛应用,并遵循摩尔定律,持续缩小特征尺寸,提高集成度。硅光集成技术:硅光集成技术:硅光集成技术是以硅基衬底材料作为光学介质,通过互补金属氧化物半导体兼容的集成电路工艺制造
3、相应的光子器件和光电器件,并利用这些器件对光子进行发射、传输、检测和处理,以实现其在光通信、光计算等领域的实际应用。资料来源:发烧友研习社公众号,东方财富网,今日头条,半导纵横网,电子工程世界网,电子技术应用网,中国光学期刊网,西部证券研发中心什么是硅光技术什么是硅光技术?图:硅光模块外观与分立式模块较为类似,图:硅光模块外观与分立式模块较为类似,同为可插拔的形态同为可插拔的形态图:图:CMOS晶管体晶管体图:加工完后的硅光芯片图片图:加工完后的硅光芯片图片资料来源:中国信息通信技术研究院,今日头条网,合明科技网,易天 光通信网,智能传感器网,西部证券研发中心传统光模块发展瓶颈传统光模块发展瓶
4、颈空间与集成度限制:空间与集成度限制:在高密度部署场景下,传统光模块的尺寸限制了其在数据中心的扩展能力。例如,QSFP+等紧凑型封装在高带宽需求下难以满足空间要求,限制了单机架交换容量的提升。带宽瓶颈及带宽瓶颈及“功耗墙功耗墙”痛点:痛点:随着数据速率从400G向800G、1.6T迈进,传统光模块需要并行的激光器和探测器数量增加,导致功耗和体积线性增长。电互联的损耗和串扰也变得越来越严重,形成带宽瓶颈和“功耗墙”。成本与制造复杂性:成本与制造复杂性:传统光模块的制造涉及多个分立器件的组装与测试,工艺复杂且成本较高。随着速率的提升,传统方案的制造成本难以有效控制,限制了其在大规模部署中的应用。供
5、应链瓶颈:供应链瓶颈:传统光模块光芯片等核心器件依赖进口,国产化率较低,导致供应不稳定,影响量产。图:数据中心光模块发展趋势图:数据中心光模块发展趋势图:图:2019-2029年年VSCEL、EML、硅光总出货量(百万个)、硅光总出货量(百万个)硅光方案相较于传统硅光方案相较于传统EML方案方案,在功耗在功耗、集成度和成本上具有显著优势集成度和成本上具有显著优势。同时同时,硅光技术通过片上集成波导和光耦合结构硅光技术通过片上集成波导和光耦合结构,简化了多通道数据传输简化了多通道数据传输的物理架构的物理架构,适用于数据中心短距传输和高密度部署场景适用于数据中心短距传输和高密度部署场景。高集成度:
6、高集成度:基于硅基CMOS工艺,将激光器、调制器、波导、光电探测器等光电器件单片集成于单一硅芯片,组件数量大幅减少,体积缩小。低成本:低成本:1)相较于III-IV族材料,硅在自然界中丰度优势显著,成本远低于III-IV族材料;2)通过集成化设计减少封装工序,组件与人工成本下降;3)外置激光器方案具有成本优势(集成度高,需使用的CW光源数量小于EML数量)。低功耗:低功耗:高密度集成减少了分立器件之间连接的损耗;且不需要TEC来管理温度和性能、降低功耗。资料来源:观研报告网,今日头条,搜狐网,腾讯云开发者社区,化合物半导体,唯锐科技官网,西部证券研发中心硅光方案优势:高效能硅光方案优势:高效能