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拓荆科技-半导体薄膜沉积设备国产龙头扬帆起航-220630（24页）.pdf

上传人：铅笔编号：81074 2022-07-01 PDF PDF 24页 1.25MB 40张图表

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报告速读

本文主要内容为证券研究报告，首次覆盖拓荆科技（688072.SH），给予买入评级。拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线。2021年公司实现营业收入7.58亿元，同比增长74%，归母净利润0.68亿元。预计2022年至2024年实现收入12.77亿元、18.30亿元、25.43亿元，归母净利润1.33亿元、2.33亿元、3.67亿元。公司作为国产薄膜沉积设备龙头，在PECVD领域具有领先优势，且正在布局ALD和先进制程用设备，有望在薄膜沉积设备大赛道中快速成长。