当前位置:首页 > 报告详情

适用于 W 波段功率放大器应用及其他领域的 100 nm 以下 GaN HEMT - Dae Hyun Kim(庆北国立大学).pdf

上传人: 拾亿 编号:751760 2025-07-29 20页 1.62MB

word格式文档无特别注明外均可编辑修改,预览文件经过压缩,下载原文更清晰!
三个皮匠报告文库所有资源均是客户上传分享,仅供网友学习交流,未经上传用户书面授权,请勿作商用。
本文主要介绍了基于SiC衬底的亚100纳米AlGaN/GaN HEMT晶体管的研究成果,目标是为W波段功率放大器及更广泛的应用提供高效解决方案。关键点如下: 1. 研究实现了4英寸晶圆级别的集成,栅极长度(Lg)从300纳米缩小至40纳米,栅极介质厚度约为11纳米。 2. Lg=70纳米的器件展现出1.54欧姆·毫米的导通电阻,最大跨导(gm_max)为380毫西门子/毫米,短通道效应导致的漏电流增益(DIBL)为148 mV/V,亚阈值摆幅(S)为139 mV/dec。 3. 研究了Lg尺寸对晶体管截止频率(fT)和最大频率(fmax)的影响,发现随着Lg减小,fT和fmax得到提升,Lg=40纳米时fT达到126 GHz,Lg=80纳米时fmax达到489 GHz。 4. 分析了fT和fmax的物理极限,指出外部延迟(τext)是进一步提升fT的关键,而为了提高fmax,控制短通道效应至关重要。 (字数:249字)
哪些突破值得关注?" 如何实现短通道效应的优化?" 亚THz GaN HEMT的终极挑战是什么?"
客服
商务合作
小程序
服务号
折叠