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至纯科技-公司深度:国产替代趋势下半导体湿法清洗设备迎增长机遇-210701(40页).pdf

上传人: e**** 编号:44334 2021-07-07 40页 1.58MB

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本文主要介绍了至纯科技的发展历程、业务布局、产品线、下游需求、行业竞争格局以及未来发展趋势。 关键点包括: 1. 至纯科技主要产品和服务包括高纯工艺系统、半导体湿法清洗设备、光传感应用及相关光学元器件,广泛应用于半导体、微电子、生物医药、光伏、光纤、LED、电力电网、石油石化、数据及通信等领域。 2. 公司收入和利润保持高增长态势,2016-2020年收入复合增长率为51.8%,扣非归母净利润复合增长率为34.4%。2021Q1实现收入2.31亿元,同比增长104.13%。 3. 公司毛利率和净利率水平高于主要同行,2020年毛利率为31.76%,净利率为18.66%。 4. 半导体产业受外部打压,设备迎国产化机遇。2021年全球半导体销售额增速将达到19.7%,2022年将增长8.8%。 5. 公司通过并购进入光纤传感及光电子元器件领域,培育新的业绩增长点。 6. 公司不断加大在半导体湿法清洗设备领域布局,订单保持快速增长态势。 7. 公司高纯工艺系统已切入中芯国际、士兰微、长江存储、台积电、海力士等知名厂商。 8. 公司已申请专利447项,已授权专利252项,软件著作权114项。
半导体产业受外部打压,设备迎国产化机遇,至纯科技如何应对? 至纯科技高纯工艺系统下游需求向好,公司产品线丰富,未来市场前景如何? 至纯科技毛利率、净利率水平高于主要同行,其竞争优势在哪里?
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