【公司研究】安集科技-深度报告：国内CMP抛光液龙头深度受益国产替代-20210104（28页）.pdf

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1、证券研究报告 请务必阅读正文后免责条款部分 2021 年 01 月 04 日 公司研究公司研究 评级：评级：买入买入（首次覆盖首次覆盖） 研究所 国内国内 CMP 抛光液龙头抛光液龙头,深度受益国产替代深度受益国产替代 安集科技安集科技（688019）深度报告）深度报告 最近一年走势 相对沪深 300 表现 表现 1M 3M 12M 安集科技 -5.8 -4.0 111.6 沪深 300 2.9 13.6 25.7 市场数据 2020-12-31 当前价格（元） 297.80 52 周价格区间（元） 128.00 - 500.85 总市值（百万） 15815.68 流通市值（百万） 8899.

2、51 总股本（万股） 5310.84 流通股（万股） 2988.42 日均成交额（百万） 326.67 近一月换手（%） 54.50 相关报告 投资要点：投资要点： 晶圆厂扩建潮晶圆厂扩建潮+技术迭代技术迭代+国产替代全面提速， 国内国产替代全面提速， 国内 CMP 抛光液市场抛光液市场 前景广阔。前景广阔。CMP 抛光液是晶圆制造关键材料之一，具有制造工艺难、 专用性高、 种类和用量随制程的降低不断增多等特点。 前瞻产业研究 院数据显示，2019 年全球 CMP 抛光液市场规模约 12 亿美元，其中 国内市场规模 16 亿元，约占据全球 16%份额，我们认为技术迭代和 下游晶圆厂建厂潮驱动产

3、业发展，打开增量空间：1）随着科技创新， 5G、智能手机等对低制程需求旺盛，带动制程下移，制程越先进， 需要的 CMP 抛光步骤就越多，制程的不断推进将推动抛光材料的需 求增长。此外，为了适应小体积、大容量等市场需求，NAND 存储 芯片正经历从 2D 到 3D 结构的技术革新，3D 结构抛光步骤为 2D 结 构的两倍，对抛光材料的需求将翻倍增长；2）CMP 抛光液作为晶圆 制造过程中必备的耗材，下游晶圆厂产能的提升会带来 CMP 抛光液 增量。受益于技术迭代和晶圆厂扩产潮驱动，CMP 抛光液市场预计 将维持稳定增长态势，Techcet 预测显示，全球抛光液市场规模 2024 年或达 18 亿

4、美元。从国内市场来看，QY Research 预测显示国内抛 光液市场规模 2025 年或超 10 亿美元， 届时国内市场占全球市场规模 将过半，远高于目前约 16%的份额。从竞争格局看，全球 CMP 抛光 液市场主要被 Cabot、 Versum、 Hitachi 等美日厂商垄断， CR5 近八成， 国内 CMP 抛光液龙头安集科技 2018 年全球市场份额虽不足 3%，但 在国内市占率超两成，结构差异明显。2013-2018 年国内 CMP 抛光 液供给端 CAGR 为 19%， 远高于需求端 9%的增速， 国内厂商日渐崛 起，国产替代之势已逐渐显露。 研发、技术、产品、客户四位一体研发、

5、技术、产品、客户四位一体共筑强大护城河，产品结构不断共筑强大护城河，产品结构不断 优化， 借国产替代东风崛起。优化， 借国产替代东风崛起。 安集科技深耕 CMP 抛光液领域十余载， 成功打破了国外厂商对该领域的垄断， 实现了进口替代。 公司产品结 构不断优化， 光刻胶去除剂产品近年开始起量， 光刻胶去除剂营收占 比从 2017 年的约 10%逐年升至 2019 年的约 17%，CAGR 超 32%。 光刻胶去除剂是用于将光刻胶残留物去除的湿电子化学品， 下游晶圆 厂扩建潮、 面板需求持续扩大等共同驱动行业快速发展， 全球光刻胶 去除剂市场规模从 2013 年的约 3 亿美元增至 2017 年的

6、超 5 亿美元， CAGR 近 15%。作为典型的技术密集型行业，公司高度重视研发， 研发费用率稳定在 18%以上， 远超 Cabot 等国内外可比公司。 公司研 发成效显著， 拥有一系列达国际领先的核心技术， 涵盖整个产品配方 和工艺流程，强大技术实力构筑护城河，公司已切入台积电、中芯国 际、华虹宏力等龙头厂商供应链，同时公司积极拓展新客户， 合规声明 国海证券股份有限公司持有该股票未超过 该公司已发行股份的 1%。 -0.5000 0.0000 0.5000 1.0000 1.5000 2.0000 2.5000 3.0000 安集科技 沪深300 证券研究报告 请务必阅读正文后免责条款部