当前位置:首页 > 报告详情

【研报】电子行业专题报告:第三代半导体之GaN研究框架-2020201206(53页).pdf

上传人: li 编号:23889 2020-12-10 50页 2.92MB

word格式文档无特别注明外均可编辑修改,预览文件经过压缩,下载原文更清晰!
三个皮匠报告文库所有资源均是客户上传分享,仅供网友学习交流,未经上传用户书面授权,请勿作商用。
本文主要介绍了第三代半导体材料GaN(氮化镓)的研究框架和应用前景。GaN在射频器件方面,受到5G推动,主要采用SiC衬底,Cree在GaN-on-SiC技术方面处于领先地位。国内主要厂商包括海威华芯、三安集成和华进创威。在功率器件方面,快充将成为最大推动力,2019年OPPO、小米等终端客户已采用GaN快充器件。我国GaN产品逐步向规模化、商业化生产发展,GaN单晶衬底已实现2-3英寸小批量产业化,4英寸已实现样品生产,6英寸已实现产业化,8英寸正在进行产品研发。GaN材料应用范围从LED向射频、功率器件不断扩展。
GaN射频器件衬底主要采用哪种材料? 我国GaN产品在小批量研发后,目前发展到了什么阶段? 快充技术的发展如何推动GaN功率器件在消费电子领域的应用?
客服
商务合作
小程序
服务号
折叠