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通信行业专题报告:液冷技术新方向及GTC大会液冷总结-260321(25页).pdf

上传人: A**** 编号:1163208 2026-03-15 25页 3.12MB

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1、国信通信行业专题报告液冷技术新方向及GTC大会液冷总结投资评级:优于大市AI时代下液冷已成大势所趋,新技术新材料的变革成为更受关注的前沿方向。目前冷板式液冷仍为未来3-5年内的主流方案,在此基础上微通道、3D打印液冷冷板、金刚石散热、液态金属优化TIM等方向有望在传统液冷方案上实现进一步优化。技术发展方向上,微通道技术(MLCP)将传统覆盖在芯片上的金属盖和上方的液冷板整合成一个单元,内部通过蚀刻工艺,形成微通道,使得冷却液直接流经芯片表面。该方案彻底取消了独立的散热盖和TIM2层,目前仍处于测试与验证阶段;3D打印液冷冷板能制造出传统工艺无法实现的复杂内部结构,同时具备一体化成型无泄露、开发

2、周期短等优势,3D打印液冷冷板已从实验室走向商业化应用。材料发展方向上,金刚石凭借超高的热导率成为散热材料的重点发展方向,AkashSystems公司宣布已交付全球首批搭载DiamondCoolingtextsuperscripttextregistered技术的英伟达H200GPU服务器,“金刚石导热技术”首次正式部署于商用AI服务器体系;液态金属以镓基合金为核心,凭借15-73W/min的超高导热系数,主要应用于热界面材料(TIM)与冷板直触散热,可将热阻降至0.05circmathsfCcdotmathsfcm2/mathsfW以下,实现芯片降温5-10circC,显著提升算力稳定性与能

3、效,当前液态金属产业化面临成本与规模化的制约因素。GTC2026大会对于AI芯片指引乐观,释放液冷积极信号。黄仁勋指出,随着推理需求的爆发,正在推动英伟达的市场规模和客户结构同步扩张,预计到2027年底,英伟达新一代AI芯片的累计营收将正式跨入1万亿美元时代。英伟达又进一步将Groq的LPU推理架构整合进平台,并首次将AI工厂、电力调度与智能体运行环境纳入统一架构。GTC大会正式提出AI工厂理念,将数据中心从“采购GPU”升级为“整柜交付的AI生产单元”:其中推出NVL72液冷机架,单机柜功耗超200kW,算力密度提升4倍;发布BIueField-4STX存储架构,面向长上下文推理优化,能效比传统架构高4倍;全面普及800V高压直流供电、CP0光互联与高密度PCB,推动数据中心PUE降至1.1以下。风险提示:AI发展及投资不及预期、行业竞争加剧、全球地缘政治风险、新技术发展引起产业链变迁等。

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1. **液冷技术趋势**:AI时代液冷成主流,冷板式为未来3-5年主方案,微通道、3D打印冷板、金刚石散热、液态金属TIM为优化方向。 2. **技术突破**: - 微通道(MLCP)整合散热盖与冷板,热阻<0.05℃·cm²/W,支持>2000W芯片,单价为传统冷板3-5倍。 - 金刚石热导率2000W/m·K(铜5倍),Akash Systems全球首商用H200 GPU服务器,提升15% FLOPs/W。 - 液态金属导热系数15-73W/m·K,降低芯片温升5-10℃,但成本高(TIM成本占60%+)。 3. **GTC大会信号**:英伟达预计2027年AI芯片累计营收破万亿美元,NVL72液冷机柜单柜功耗超200kW,算力密度提升4倍,推动数据中心PUE降至1.1以下。
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