中微公司:2025年第三季度报告.PDF

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中微公司:2025年第三季度报告.PDF

1、中微半导体设备(上海)股份有限公司中微半导体设备(上海)股份有限公司 2025 年第三季度报告年第三季度报告1/14证券代码:688012证券简称:中微公司中微半导体设备(上海)股份有限公司中微半导体设备(上海)股份有限公司20252025 年第年第三三季度报告季度报告本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏,并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。重要重要内容提示:内容提示:公司董事会及董事、高级管理人员保证季度报告内容的真实、准确、完整,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。公司负责人、主管会计工作负责人及会计机

2、构负责人(会计主管人员)保证季度报告中财务信息的真实、准确、完整。第三季度财务报表是否经审计是 否公司公司 2025 年前三季度年前三季度(1-9 月月)营业收入为营业收入为 80.63 亿元亿元,同比增长约同比增长约 46.40%。其中刻蚀设备其中刻蚀设备收入收入 61.01 亿元,同比增长约亿元,同比增长约 38.26%;LPCVD 和和 ALD 等薄膜设备收入等薄膜设备收入 4.03 亿元,同比增亿元,同比增长约长约 1332.69%。2025 年前三季度(年前三季度(1-9 月)归属于上市公司股东的净利润为月)归属于上市公司股东的净利润为 12.11 亿元,较去年同期亿元,较去年同期增

3、长增长约约32.66%。根据市场需求,公司显著加大研发力度。根据市场需求,公司显著加大研发力度。2025 年前三季度公司研发支出年前三季度公司研发支出 25.23 亿元,较去年亿元,较去年同期增长约同期增长约 63.44%,研发支出占公司营业收入比例约为,研发支出占公司营业收入比例约为 31.29%。公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升,先进逻公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升,先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量

4、产。其中其中 CCP方面方面,公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长,60 比比 1 超高深宽比介超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备质刻蚀设备成为国内标配设备,量产指标稳步提升量产指标稳步提升,下一代下一代 90 比比 1 超高深宽比介质刻蚀设备超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场;即将进入市场;ICP 方面,适用于下一代逻辑和存储客户用方面,适用于下一代逻辑和存储客户用 ICP 刻蚀设备和化学气相刻蚀设刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。公司为先进存储器件和逻备开发取得了良好

5、进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。公司为先进存储器件和逻中微半导体设备(上海)股份有限公司中微半导体设备(上海)股份有限公司 2025 年第三季度报告年第三季度报告2/14辑器件开发的辑器件开发的 LPCVD、ALD 等多款薄膜设备已经顺利进入市场等多款薄膜设备已经顺利进入市场,并且设备性能完全达到国并且设备性能完全达到国际领先水平,薄膜设备的覆盖率不断增加。公司硅和锗硅外延际领先水平,薄膜设备的覆盖率不断增加。公司硅和锗硅外延 EPI 设备已顺利运付客户端进设备已顺利运付客户端进行量产验证,并且获得客户高度认可。在泛半导体设备领域,公司正在开发更多化合物半导行量产验证,并且获得客户高

6、度认可。在泛半导体设备领域,公司正在开发更多化合物半导体外延设备,已陆续付运至客户端开展生产验证。体外延设备,已陆续付运至客户端开展生产验证。审计师发表非标意见的事项适用 不适用一、一、主要财务数据主要财务数据(一)(一)主要主要会计数据和财务指标会计数据和财务指标单位:元币种:人民币项目本报告期本报告期比上年同期增减变动幅度(%)年初至报告期末年初至报告期末比上年同期增减变动幅度(%)营业收入3,101,963,845.3850.628,062,565,115.4246.40利润总额509,457,874.8622.731,227,224,383.2229.65归属于上市公司股东的净利润50

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