1、证券研究报告|首次覆盖报告 请仔细阅读本报告末页声明请仔细阅读本报告末页声明 gszqdatemark 中微公司（中微公司（688012.SH）国产国产刻蚀刻蚀+MOCVD 龙头龙头，加速打造高端装备加速打造高端装备平台平台 二十二十余余载砥砺前行，载砥砺前行，国产高端装备平台国产高端装备平台领军者领军者。中微公司成立于 2004 年5 月，当前公司已形成以刻蚀设备、MOCVD 设备为基，向薄膜沉积设备、量检测设备等拓展的平台化发展格局。公司目前等离子体刻蚀设备技术能力达到 5 纳米级以下，未来还将继续开发更先进工艺水平，市占率持续提升并不断收到领先客户批量订单。MOCVD 设备在 Mini

2、LED 等氮化镓基设备领域市场占据领先地位，未来还将持续开发用于氮化镓、碳化硅等功率器件及 Micro-LED 器件制造的 MOCVD 设备。24H1 实现薄膜设备的首台销售，公司还在规划多款 CVD 和 ALD 设备，增加薄膜设备覆盖率。伴随高研发转换效率，公司营收业绩稳健增长，收入和归母净利润分别从 2018年的 16.39/0.9 亿元增长到 2024 年的约 90.65/16.3 亿元，复合增速分别达到 33.0%/61.7%。CCP 领域技术领先，领域技术领先，ICP 设备付运势头强劲设备付运势头强劲。刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺，全球范围来看，LAM、AMAT、TEL 等企业占

3、据市场主导地位。受益于芯片向更先进制程演进及存储器件垂直化发展，叠加多重曝光下刻蚀工艺步骤提升，刻蚀设备重要性进一步提升。中微公司凭借系列刻蚀设备组合处于刻蚀创新技术前沿，市占率大幅提升，截至 2024 年第三季度，公司累计交付 CCP 反应台超 3800 个，设备覆盖 28 纳米以上逻辑器件制造绝大部分 CCP 刻蚀应用，公司 ICP 设备拥有 700+反应台在线生产，覆盖 95%以上刻蚀应用。其中，Nanova 单台机订单年增长超 100%迅速扩大市占率，PrimoUD-RIE 已在生产线验证具有刻蚀60：1 深宽比结构量产能力，TSV 新工艺验证成功，推动我国高端半导体制造设备达到新高度

4、。薄膜沉积设备研发薄膜沉积设备研发转换高效转换高效布局布局，MOCVD 应用领域拓宽应用领域拓宽。薄膜沉积设备是芯片制造三大核心设备之一，按工艺原理不同，可分为 PVD、CVD 和ALD，2025 年全球薄膜沉积设备市场规模预计达 239.6 亿美元，目前行业由 AMAT 和、Lam 和 TEL 等企业垄断，国产厂商份额提升空间广阔。中微公司持续推进多款薄膜沉积设备研发项目，至 2024 年中已实现六种设备高效研发交付及客户量产验证，钨系列薄膜沉积产品全面覆盖存储器件钨应用，公司 LPCVD 薄膜设备已经顺利进入市场，2024 年收到 4.76 亿元批量订单，实现销售收入 1.56 亿元。同时

5、，公司深耕 MOCVD 领域，在全球氮化镓基 LED MOCVD 设备市场占据领先地位。盈利预测及盈利预测及投资建议：投资建议：我们预计公司 2025/2026 年实现营收 120.7/158.0亿元，实现归母净利润 25.5/35.6 亿元，实现毛利率 42.9%/43.9%，对应PE 为 49/35x，具备估值优势，首次覆盖，给予“买入”评级。风险提示：风险提示：研发进展不及预期、客户导入进展不及预期、数据滞后性风险、行业竞争加剧。买入买入（首次首次）股票信息股票信息 行业 半导体 03 月 13 日收盘价（元）199.69 总市值（百万元）124,279.81 总股本（百万股）622.3

6、6 其中自由流通股（%）100.00 30 日日均成交量（百万股）10.50 股价走势股价走势 作者作者 分析师分析师 郑震湘郑震湘 执业证书编号：S0680524120005 邮箱： 分析师分析师 佘凌星佘凌星 执业证书编号：S0680525010004 邮箱： 分析师分析师 刘嘉元刘嘉元 执业证书编号：S0680525010002 邮箱： 相关研究相关研究 1、中微公司（688012.SH）：扣非业绩大增，刻蚀龙头内生外延打造旗舰平台 2022-08-14 2、中微公司（688012.SH）：一季度刻蚀高速增长，全年双业务放量可期 2022-05-09 3、中微公司（688012.SH）：