2024光刻机产业竞争格局、国产替代空间及产业链相关公司分析报告（40页）.pdf

1、 2024 年深度行业分析研究报告内容目录内容目录光刻：先进制程关键步骤，半导体产业基石光刻：先进制程关键步骤，半导体产业基石.6 6光刻技术简介.6光刻的工艺水平决定芯片的制程与性能.8制程技术决定半导体行业的发展水平.10多重曝光工艺可跨越光刻机极限分辨率，实现更小线宽.12光刻机详解：半导体制造业皇冠上的明珠，光学系统为重中之重光刻机详解：半导体制造业皇冠上的明珠，光学系统为重中之重.1414发展历程与趋势：从 UV 到 EUV，正在向 High-NA EUV 发展.14产业链涉及范围广，所需供应组件众多，供应链管理难度高.15整体结构：多种先进系统的精准组合.16光源系统：稳定产生特定

2、波长的光线.17照明系统：优化成像过程.18投影物镜系统：实现光线的聚焦.19工作台系统：承载晶圆、精确对准.21千亿市场高速增长，一超两强三分天下千亿市场高速增长，一超两强三分天下.2222市场规模：千亿市场高速增长.22竞争格局：三大供应商占据主要市场，ASML 为绝对龙头.24国产光刻机空间广阔、任重道远国产光刻机空间广阔、任重道远.2727中国除港澳台地区光刻机进口规模大，替代空间广.27陆资晶圆代工厂需求持续增高.28美日荷对华先进制程封锁，光刻机国产化势在必行.30举全国之力，国产光刻机产业链实现部分突破.30产业链相关公司概览产业链相关公司概览.3434茂莱光学（688502.S

3、H）：精密光学方案商赋能国产 I 线曝光物镜.34福晶科技（002222.SZ）：立足晶体元件，布局超精密光学业务.34福光股份（688010.SH）：特种及民品光学镜头领先者.35腾景科技（688159.SH）：深入研发光刻机合分束器项目.35波长光电（301421.SZ）：大孔径光学镜头进入半导体产业链.36永新光学（603297.SH）：光学精密仪器及元组件供应商，产品可用于半导体领域.37蓝特光学（688127.SH）：领先的光学产品制造企业，纳米级光刻机镜头系统在研.37炬光科技（688167.SH）：供应光刻机用光场匀化器，拟向光刻制程设备微透镜阵列拓展.38赛微电子（300456

4、.SZ）：全球 MEMS 代工龙头，高端光刻机微镜主要供应商.39图表图表目录目录图1：摩尔定律.6图2：相机原理示意图.7图3：光刻原理示意图.7图4：半导体芯片制造流程.8图5：瑞利准则概述图.8图6：孔径角示意图.8图7：光刻机光源波长变化趋势.9图8：光刻机数值孔径 NA 变化趋势.9图9：晶体管的栅极长度示意图.11图10：ASML 对客户节点演进的预测.11图11：LELE 工艺示意图.12图12：SADP 工艺示意图.12图13：使用浸没式 DUV 和 EUV 实现更小特征尺寸时的方案.13图14：使用浸没式 DUV 进行多重曝光的工艺复杂度.13图15：采用浸没式 DUV 与

5、EUV 的工艺步数对比.13图16：ASML 光刻机简易工作原理图.14图17：光刻机产业链.15图18：光刻机的结构构成（以浸没式 DUV 设备 TWINSCAN NET：2100i 为例）.16图19：光刻机的结构构成（以 ASML EUV 设备为例）.16图20：Cymer 单腔 DUV 准分子激光器的工作原理.17图21：新型准分子激光器各个模块的技术进步.17图22：EUV 光源系统结构图.18图23：EUV 光源双脉冲方案.18图24：照明系统结构.18图25：衍射光无法成像示意图.19图26：环形光成像示意图.19图27：物镜系统通过各种透镜组合修正成像质量.19图28：DUV

6、光刻机的物镜系统.20图29：EUV 光刻机的物镜系统.20图30：投影物镜与高端单反镜头像素差.21图31：ZESSI 物镜参数.21图32：双工件台工作原理示意（以 ASML DUV 光刻机为例）.21图33：全球光刻机市场规模（百万美元）.22图34：全球半导体设备细分市场结构.22图35：光刻机占半导体市场规模比例.23图36：2019-2022 年全球光刻机出货量（台，按供应商分）.23图37：2019-2022 年全球光刻机营收（亿元）及同比（%）.23图38：2019-2023 年全球光刻机出货量（台，按设备类型分）.24图39：不同类型光刻机平均售价（亿欧元/台）.24图40：