1、 证券研究报告|公司深度报告 2023 年 10 月 23 日 增持增持（首次）（首次）国内国内 CMP 抛光液抛光液龙头，功能性湿化学品开启第二成长曲线龙头，功能性湿化学品开启第二成长曲线 TMT 及中小盘/电子 当前股价：171.69 元 安集科技是国内安集科技是国内 CMP 抛光液龙头和功能性湿电子化学品领先厂商抛光液龙头和功能性湿电子化学品领先厂商，客户覆盖客户覆盖中芯国际、长江存储、台积电等龙头中芯国际、长江存储、台积电等龙头晶圆厂。公司晶圆厂。公司 CMP 抛光液抛光液逐步逐步实现全品实现全品类布局类布局，功能性湿化学品，功能性湿化学品布局布局清洗、刻蚀清洗、刻蚀、电镀液三大、电镀

2、液三大品类，品类，2022 年年整体面整体面向市场空间向市场空间超超 40 亿美金。亿美金。22H2 以来全球晶圆厂稼动率持续下行，以来全球晶圆厂稼动率持续下行，当前处于低当前处于低位，但位，但公司公司 23H1 收入和业绩依旧实现同比增长，考虑到收入和业绩依旧实现同比增长，考虑到后续行业景气度复苏后续行业景气度复苏有望有望逐步逐步传导至晶圆厂，进而传导至晶圆厂，进而带动晶圆厂稼动率边际改善带动晶圆厂稼动率边际改善，叠加公司钨、基于叠加公司钨、基于氧化铈磨料等抛光液、功能性湿化学品快速放量，我们认为氧化铈磨料等抛光液、功能性湿化学品快速放量，我们认为 23H2-2024 年年公公司收入司收入和

3、业绩仍具有较高增长弹性和业绩仍具有较高增长弹性。首次覆盖，给予。首次覆盖，给予“增持增持”投资评级投资评级。国内国内 CMP 抛光液和功能性电子湿化学品龙头，抛光液和功能性电子湿化学品龙头，覆盖中芯国际、长江存储、覆盖中芯国际、长江存储、台积电等龙头客户台积电等龙头客户。安集科技于 2004 年成立，公司几位高管多为海归背景，具有海外 CMP 抛光液龙头 Cabot 工作经验。公司在 2021 年之前覆盖CMP 抛光液和光刻胶去除剂两大产品线，CMP 抛光液逐步实现全品类布局，光刻胶去除剂单品也拓展至功能性湿电子化学品品类，公司客户覆盖台积电、联电、长江存储、中芯国际、华虹宏力等头部晶圆厂。公

4、司收入从2016 年的 1.96 亿元增长至 2022 年的 10.77 亿元，CAGR 为 32.8%，23H1，下游晶圆厂稼动率低迷，但公司实现收入 5.75 亿元，同比依旧增长14.2%，主要系 CMP 抛光液等产品在客户份额持续提升。公司公司 CMP 抛光液抛光液逐步逐步全全品类布局，市场份额持续提升品类布局，市场份额持续提升。CMP 抛光液作用是使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达到抛光的目的，特点是种类繁多，产品配方为核心技术体现。根据 TECHCET，2022 年全球 CMP 抛光液市场空间超 20 亿美元，以铜及铜阻挡层、钨抛光液等品类为主，其中铜及铜阻挡层在逻

5、辑芯片中广泛应用，在存储芯片中也有一定应用，钨抛光液则在存储芯片中大量使用，仅用于逻辑部分工艺段。安集科技成立之初便布局 CMP 抛光液产品，最早的产品线为铜及铜阻挡层抛光液，并拓展钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、介电材料等产品，逐渐形成全品类产品布局；当前公司铜及铜阻挡层抛光液保持国内领先份额，紧跟客户先进制程，部分领先技术在客户端完成验证；钨抛光液在存储领域份额持续上升；基于氧化铈磨料的抛光液在 3D NAND 先进制程产线快速放量；介电材料方面，首款氮化硅抛光液上量顺利，高倍稀释氧化物抛光液已实现量产；硅精抛液在国内领先硅片厂商实现销售，三维集成抛光液在多个客户实现销售，第

6、三代半导体抛光液验证顺利并进一步拓展至海外客户。同时，按照安集科技 2022 年 CMP 抛光液 9.5 亿元收入测算，全球市占率预计不足 10%，仍有较大提升空间。功能性湿电子功能性湿电子化学品立足清洗、刻蚀、化学品立足清洗、刻蚀、剥离剥离液并液并进一步开拓电镀液进一步开拓电镀液，打开第，打开第二成长曲线二成长曲线。功能性湿电子化学品包括清洗液、刻蚀液、电镀液及添加剂三大类，广泛用于清洗、刻蚀、铜互连、先进封装等工艺环节，根据TECHCET，2022 年全球半导体清洗材料市场空间约 11 亿美元，电镀液及添加剂市场空间大约 10 亿美元。在成立之初，公司主营光刻胶去除剂单品，面向 IC 制造