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电子行业专题报告:先进封装专题三代工、IDM厂商先进封装布局各显神通-231117(23页).pdf

上传人: 孔明 编号:146305 2023-11-22 23页 3.17MB

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1、行 业 研 究 2023.11.17 1 敬 请 关 注 文 后 特 别 声 明 与 免 责 条 款 电 子 行 业 专 题 报 告 先进封装专题三:代工、IDM 厂商先进封装布局各显神通 分析师 郑震湘 登记编号:S1220523080004 佘凌星 登记编号:S1220523070005 刘嘉元 登记编号:S1220523080001 行 业 评 级:推 荐 行 业 信 息 上市公司总家数 495 总股本(亿股)4,975.55 销售收入(亿元)45,290.82 利润总额(亿元)3,466.42 行业平均 PE 70.27 平均股价(元)34.36 行 业 相 对 指 数 表 现 数据来

2、源:wind 方正证券研究所 相 关 研 究 vivo 首款端侧 AI 手机强势发布,拥抱 AI手机新机遇2023.11.14 先进封装专题二:HBM 需求井喷,国产供应链新机遇2023.11.14 华为智能汽车专题四:阿维塔 12 大超预期,智能驾驶全面升级2023.11.13 港股消费电子专题:钛合金加速导入,潜望镜及终端侧 AI 趋势确立2023.11.10 先进封装技术趋势在于提高先进封装技术趋势在于提高 I/OI/O 数量及传输速率,以实现芯片间的高速互数量及传输速率,以实现芯片间的高速互联联,市场格局呈现出明显的马太效应,市场格局呈现出明显的马太效应,Fab/IDMFab/IDM

3、厂和厂和 OSATOSAT 错位竞争。错位竞争。2016年先进封装市场 CR5 占比 48%,2021 年提升至 76%,强者恒强。Fab/IDM 厂和 OSAT 厂各自发挥自身优势,Fab/IDM 厂凭借前道制造优势和硅加工经验,主攻 2.5D 或 3D 封装技术,而 OSAT 厂商则聚焦于后道技术,倒装封装仍是其主要产品。封测技术主要指标为凸点间距(Bump Pitch),凸点间距越小,封装集成度越高,难度越大,台积电 3D Fabric 技术平台下的 3D SoIC、InFO、CoWoS 均居于前列,其中 3D SoIC 的凸点间距最小可达 6um,居于所有封装技术首位。台积电:整合构建

4、台积电:整合构建 3 3D FabricD Fabric 平台,先进制程持续演进平台,先进制程持续演进。布局 SoIC、CoWoS、InFO 技术,搭建 3DFabric 技术平台,提供从前端到后端完全集成的同构和异构集成。SOIC 为垂直芯片堆叠 3D 拓扑封装,可与 CoWoS、InFO 共用,AMD是首发客户,最新的 MI300 即以 SoIC 搭配 CoWoS。苹果考虑后续在 Macbook中使用 SOIC 搭配 InFO 技术,目前正处小批量试产中。CoWoS 主要针对需要整合先进逻辑和高带宽存储器的 HPC 应用,目前已支持超过 25 个客户的140多种CoWoS产品,当前主要提供

5、三种不同的转接板技术:CoWoS-S、CoWoS-R、CoWoS-L。InFO 是创新的晶圆级系统集成技术平台,具有高密度 RDL 和TIV,用于各种应用的高密度互连和性能,主要有 InFO_PoP、InFO_oS 两种产品。相对来说,CoWoS 的性能更好,但成本较高;InFO 则采用 RDL 代替硅中介层,无须 TSV,性价比更高。三星:三星:I I-CubeCube 和和 X X-CubeCube 提供提供 2.5D&3D2.5D&3D 解决方案解决方案。三星提供了 2.5D 和 3D 在内的丰富的先进封装交钥匙解决方案。包括 I-CubeS、I-CubeE、X-Cube(TCB)和 X

6、-Cube(HCB)四个不同的封装类型:1)I-CubeS 和 I-CubeE 都是2.5D 封装技术的代表:它们的技术特点是,在一个 85x85mm的封装中,可以同时放置多个 HBM(目前是 8 个),并且互连层的面积是一个标准光罩的三倍,即 3x reticle;2)3D 封装技术 X-Cube(TCB)和 X-Cube(HCB):区别在于是否使用凸块连接技术,X-Cube(HCB)微凸块间距和硅片厚度仅为4m 和 10m,精度提升。英特尔英特尔:EMIBEMIB 和和 3D Foveros3D Foveros 持续演进。持续演进。当前 2.5D 封装的主流方案包括:以台积电的 CoWos

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本文主要介绍了电子行业中先进封装技术的发展趋势和主要厂商的布局情况。 1. 先进封装技术趋势在于提高I/O数量及传输速率,以实现芯片间的高速互联。市场格局呈现出明显的马太效应,Fab/IDM厂和OSAT厂错位竞争。 2. 2016年先进封装市场CR5占比48%,2021年提升至76%,强者恒强。台积电和三星在3D封装技术上领先,凸点间距越小,封装集成度越高,难度越大。 3. 台积电布局SoIC、CoWoS、InFO技术,搭建3DFabric技术平台,提供从前端到后端完全集成的同构和异构集成。SoIC为垂直芯片堆叠3D拓扑封装,CoWoS主要针对需要整合先进逻辑和高带宽存储器的HPC应用,InFO为创新的晶圆级系统集成技术平台,具有高密度RDL和TIV。 4. 三星提供了2.5D和3D在内的丰富的先进封装交钥匙解决方案,包括I-CubeS、I-CubeE、X-Cube (TCB) 和 X-Cube (HCB)四个不同的封装类型。 5. 英特尔的封装技术从基于2D封装的FCBGA/FCLGA向2.5D的EMIB及3D Foveros封装发展。EMIB和Foveros的连接间距在2023年提升至45微米,混合键合凸点间距将减小到10微米以下。
先进封装技术如何提高芯片性能? 台积电和三星在先进封装领域的竞争格局如何? 英特尔的EMIB和Foveros技术有何优势?
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