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图表33.中微参股沈阳拓荆11.20%股权
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所属报告:
2021年刻蚀设备市场规模与中微公司盈利能力分析报告(29页).pdf
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沈阳拓荆成立于 2010年 4月,是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业,主要从事纳米级镀膜设备及其零部件的研发、设计、制造及技术咨询与服务。公司拥有 12英寸PECVD(等离子体化学气相沉积设备)、ALD(原子层薄膜沉积设备)、SACVD(次常压化学气相沉积设备)三个完整系列产品,广泛应用于集成电路前道和后道、TSV封装、光波导、Micro-LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域。
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2021年刻蚀设备市场规模与中微公司盈利能力分析报告(29页).pdf
图表9.全球刻蚀设备市场规模有望持续创新高(美元)
图表8.刻蚀(Etch)设备在IC工艺设备中约占1/5
图表7.刻蚀工艺在晶圆制造中的位置
图表6.逻辑芯片中的刻蚀工艺类别
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